သွပ်ရည်စိမ်ဝိုင်ယာအလိပ်ကြီးများအတွက် သံမဏိဝါယာကြိုးများအတွက် အရည်အသွေးသတ်မှတ်ချက်များ

လိပ်ကြီးသွပ်ရည်စိမ်ဝါယာကြိုးအရည်အသွေးမြင့် ကာဗွန်အနိမ့်သံမဏိဝါယာကြိုးချောင်းမှ စီမံဆောင်ရွက်ပါသည်။စဉ်ဆက်မပြတ် လှိမ့်စက်ဖြင့် လှိမ့်ထားသော ဝါယာကြိုးတစ်ခုစီသည် 200 ကီလိုဂရမ်ထက် မနည်းသော်လည်း အသုတ်တစ်ခုစီတွင် ပြားအရေအတွက်၏ 15% ကို နှစ်ခုဖြင့် ဖွဲ့စည်းခွင့်ပြုထားပြီး ကြိမ်လုံးတစ်ခုစီ၏ အလေးချိန်မှာ 80 ကီလိုဂရမ်ထက် မနည်းသော 4%၊ အသုတ်တစ်ခုစီတွင် ပြားအရေအတွက်ကို ခွင့်ပြုထားပြီး ၎င်း၏တစ်ခုတည်းသော ဝါယာကြိုး၏ အလေးချိန်သည် 200kg ထက်နည်းသော်လည်း 40kg ထက်မနည်းပါ။semicontinuous mill ဖြင့်လှိမ့်ထားသောလှံတံတစ်ခုစီသည် 60 ကီလိုဂရမ်ထက်မနည်းစေရ၊ သုတ်တစ်ခုစီတိုင်းတွင် ဒစ်စထရိုဂျင် 5% ပါဝင်ခွင့်ရှိစေရမည်။လှံတံ၏အလေးချိန်သည် 60 ကီလိုဂရမ်ထက်မနည်းစေရဘဲ 30 ကီလိုဂရမ်ထက်မနည်းစေရပါ။

သံမဏိဝါယာကြိုးတစ်ခုစီတွင် ဝါယာကြိုးတစ်ခုစီ ပါရှိရမည်။လှံတံ၏မျက်နှာပြင်တွင် အက်ကွဲကြောင်း၊ ခေါက်များ၊ အမာရွတ်များ၊ နားရွက်များ၊ အလွှာများ သို့မဟုတ် ပါဝင်မှု မရှိစေရပါ။သို့ရာတွင်၊ ကျင်းများ၊ အဖုအထစ်များ၊ ခြစ်ရာများနှင့် pockmarks များကို ခွင့်ပြုထားပြီး အတိမ်အနက် သို့မဟုတ် အမြင့် 0.2 မီလီမီတာ မဖြစ်ရပါ။သံမဏိဝါယာကြိုး၏မျက်နှာပြင်ပေါ်တွင် ချေးနှင့် ဓာတ်တိုးခြင်း အရေပြားမရှိသင့်ဘဲ ဓာတ်တိုးခြင်းအရောင်ကို အပူဖြင့် ကုသခြင်းပြုပါသည်။ဝါယာကြိုး၏ မျက်နှာပြင်သည် ခွင့်ပြုနိုင်သော အချင်း၏ တစ်ဝက်ထက်မပိုသော ခြစ်ရာများ ရှိစေကာမူ သင့်လျော်သော အချင်း၏ ခွင့်ပြုထားသော သွေဖည်မှုထက် မကျော်လွန်သော ဒေသဆိုင်ရာ ချို့ယွင်းချက်များ ရှိစေပါသည်။

အရည်အချင်းပြည့်မီသော ပစ္စည်းများကို အသုံးပြုသည့်အခါ အကိုးအကားအတွက် အမှတ်အသားပြုထားသင့်သည်။မျက်နှာပြင်ဖလင်ကို ဖယ်ရှားရန်အတွက် မျက်နှာပြင်ပါဝင်မှုနှင့် အခြားသော ချို့ယွင်းချက်ကြီးမားသော လိပ်မျက်နှာပြင်ကို ဖယ်ရှားရန်သွပ်ရည်စိမ်ဝါယာကြိုးအနည်ကျအလွှာ၏ မျက်နှာပြင်တွင် ၎င်းကို သမားရိုးကျနည်းပညာဖြင့် တွေ့ရှိပြီး ကုသနိုင်သည်။ပိုလျှံသောအမြှုပ်များသည် ဆပ်ပြာများနှင့် saponable fatty surfactant များကို ကန်ထဲသို့ထည့်ခြင်းကြောင့် ဖြစ်ရသည်။အလယ်အလတ် အမြှုပ်ထွက်နှုန်းသည် အန္တရာယ်မရှိနိုင်ပါ။တိုင်ကီအတွင်း ကြီးမားသော denier ၏ တစ်သားတည်းဖြစ်တည်နေသော အမှုန်အမွှားငယ်များ ရှိနေခြင်းသည် ရေမြှုပ်အလွှာကို တည်ငြိမ်စေသော်လည်း အစိုင်အခဲအမှုန်များ များပြားလွန်းခြင်းကြောင့် ပေါက်ကွဲခြင်းကို ဖြစ်စေနိုင်သည်။

activated carbon ဖြင့် ဖျာခင်းခြင်းဖြင့် မျက်နှာပြင် တက်ကြွသော အရာများကို ဖယ်ရှားရန်။ထိရောက်မှုအတိုင်းအတာများဖြစ်သည့် အမြှုပ်များ လျော့နည်းတည်ငြိမ်စေရန် filtration သို့မဟုတ် filtration;Z သို့သယ်ဆောင်လာသောမျက်နှာပြင်-တက်ကြွသောဒြပ်စင်များပမာဏကိုလျှော့ချရန်အခြားအစီအမံများကိုလုပ်ဆောင်သင့်သည်။ အော်ဂဲနစ်ဒြပ်ပစ္စည်းမိတ်ဆက်ခြင်းဖြင့် electroplating အရှိန်ကိုသိသိသာသာလျှော့ချနိုင်သည်။ဓာတုဖော်မြူလာသည် မြင့်မားသော စုဆောင်းမှုနှုန်းအတွက် သင့်လျော်သော်လည်း၊ အလွှာ၏အထူသည် အော်ဂဲနစ်ဒြပ်များကို တင်ဆောင်ပြီးနောက် လိုအပ်ချက်များကို မပြည့်မီနိုင်သဖြင့် သိုလှောင်ထားသော ကာဗွန်ကို ကုသရန်အတွက် အသုံးပြုနိုင်သည်။